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        GMD2000甘草粉超細濕法膠體磨

        GMD2000甘草粉超細濕法膠體磨,SGN研磨機效率高、輕便、整機模塊結(jié)構(gòu),操作方便,可長時間運轉(zhuǎn),輕松滿足多種高要求的分散乳化實驗。可在實驗室模擬在線工況進行循環(huán)或在線連續(xù)處理,具有高效均質(zhì)無分散死角等

        • 產(chǎn)品型號:GMD2000
        • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
        • 更新時間:2024-09-17
        • 訪  問  量:1874
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        聯(lián)系電話:021-67898912

        產(chǎn)品詳情

        GMD2000甘草粉超細濕法膠體磨,甘草粉超細濕法研磨機,甘草粉研磨機,甘草粉濕法粉碎機,德國進口高速研磨機,甘草粉高剪切研磨機,管線式甘草粉研磨機,工業(yè)生產(chǎn)甘草粉濕法研磨機

         

        SGN研磨機效率高、輕便、整機模塊結(jié)構(gòu),操作方便,可長時間運轉(zhuǎn),輕松滿足多種高要求的分散乳化實驗??稍趯嶒炇夷M在線工況進行循環(huán)或在線連續(xù)處理,具有高效均質(zhì)無分散死角等

         

        甘草具有抗炎、抗bian態(tài)反應(yīng)的作用,這主要來自于甘草酸銥--甘草酸及甘草次酸鹽,還能抑制毛細血管通透性。腎上腺皮質(zhì)激素樣作用,甘草具有鹽皮質(zhì)甾醇樣作用和糖皮質(zhì)類甾醇樣作用。其激素樣作用的原理,有人認為是甘草次酸的化學(xué)結(jié)構(gòu)與腎上腺皮質(zhì)激素有相似之點,是一種直接作用,但也有人認為是間接作用,即甘草次酸抑制了腎上腺皮質(zhì)甾醇類在體內(nèi)的破壞,因而血中含量相應(yīng)增加。同時,甘草黃銅還有抑制酪氨酸酶活性、清除氧目由基,其抗氧化能力與維生素E比較接近

         

        客戶原始樣品120目,希望通過高剪切研磨機能夠達到10微米以下,思峻給出了兩種方案,一種采用GMSD2000/4濕法高剪切研磨機12000rpm轉(zhuǎn)速下一遍兩遍測試效果;第二種采用思峻推出的GR4000/4高速濕法分散機,線速度66m/s,21000rpm轉(zhuǎn)速下一遍兩遍測試效果。目測效果是很明顯的,客戶也是比較滿意.

         

        上海思峻的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。SGN研磨分散機可以高速研磨,分散,乳化,均質(zhì)等功能,設(shè)備轉(zhuǎn)速可達14000rpm,是目前國產(chǎn)設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。

         

        根據(jù)一些行業(yè)特殊要求,思峻公司在GRS2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出GR2000高速剪切乳化機機。其剪切速率可以超過200.00 rpm,轉(zhuǎn)子的速度可以達到66m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度高,無需其他輔助分散設(shè)備,可以達到普通的高壓均質(zhì)機的400BAR壓力下的顆粒大小.

         

         

        濕法研磨機的特點:

        1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

         

        2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

        3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

        4、 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

        5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

        從設(shè)備角度來分析,影響研磨分散機效果因素有以下幾點:

        1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)

        2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)

        3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好)

        4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)

        5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)

        線速度的計算:

        剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

        剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
                       g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

        由上可知,剪切速率取決于以下因素:

        轉(zhuǎn)子的線速率

        在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
        SGN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

        速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

         所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個zui重要因素,高速分散均質(zhì)分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的

        設(shè)備其它參數(shù):

        設(shè)備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
        電機形式:普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
        電源選擇 380V/50HZ220V/60HZ、440V/50HZ
        電機選配件 PTC 熱保護、降噪型
        研磨分散機材質(zhì)SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
        研磨分散機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
        研磨分散機表面處理:拋光、耐磨處理
        進出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
        研磨分散機選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

         

        GMD2000系列研磨分散機設(shè)備選型表

        型號

        流量

        L/H

        轉(zhuǎn)速

        rpm

        線速度

        m/s

        功率

        kw

        入/出口連接

        DN

        GMD2000/4

        300

        9000

        23

        2.2

        DN25/DN15

        GMD2000/5

        1000

        6000

        23

        7.5

        DN40/DN32

        GMD2000/10

        2000

        4200

        23

        22

        DN80/DN65

        GMD2000/20

        5000

        2850

        23

        37

        DN80/DN65

        GMD2000/30

        8000

        1420

        23

        55

        DN150/DN125

        GMD2000/50

        15000

        1100

        23

        110

        DN200/DN150

         

        流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%

        價格電議  孫:,公司有樣機可實驗!,歡迎廣大客戶來我司參觀指導(dǎo)!SGN銷售工程師會根據(jù)客戶具體需求做適當(dāng)?shù)脑O(shè)備選型,以及根據(jù)流量做型號相應(yīng)放大!

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